(相关资料图)
1、1. 清洗硅片并准备掩膜:1)浓H2SO4/H2O2=3﹕1,15min(配1次洗液可以用1周;H2O2 30%);2)打开电热板调至200℃;掩膜准备;2. 超纯水清洗硅片;注释:用镊子夹着硅片,不能使硅片放干;3. 无水乙醇清洗硅片。
2、1min(摇动或超声),不用水洗!4. 丙酮清洗硅片,1min(摇动或超声);5. 超纯水清洗;6. 吸水纸吸取边缘水分(勿放于吸水纸上);7. 用镊子夹住硅片。
3、氮气吹干或者放在200℃电热板上方(不能接触),待彻底干后,放在电热板上5min;。
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